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產(chǎn)品簡介
ASML 4022.654.92831
產(chǎn)品價格:¥6775.00元/件
上架日期:2025-03-31
發(fā)貨地:福建 寧德市
供應(yīng)數(shù)量:不限
最少起訂:1件
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詳細(xì)說明
    詳細(xì)參數(shù)
    品牌ASML型號4022.654.92831
    結(jié)構(gòu)形式模塊式安裝方式現(xiàn)場安裝
    LD指令處理器硬PLC加工定制

    ASML 4022.654.92831 

    ASML 4022.654.92831 

    :核心技術(shù)參數(shù)全面

    ASML作為全球領(lǐng)先的光刻設(shè)備制造商,其產(chǎn)品一直備受半導(dǎo)體行業(yè)的關(guān)注。本文將深入探討ASML 4022.654.92831這一型號的光刻機(jī)參數(shù),幫助讀者全面了解其技術(shù)特點(diǎn)與應(yīng)用領(lǐng)域。

    基本信息

    ASML 4022.654.92831屬于TWINSCAN系列,是一款專為先進(jìn)芯片制造設(shè)計的高性能光刻機(jī)。該設(shè)備采用極紫外(EUV)光刻技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)7納米及以下工藝節(jié)點(diǎn)的芯片生產(chǎn)。其獨(dú)特的雙工作臺設(shè)計,顯著提高了生產(chǎn)效率和穩(wěn)定性。

    核心技術(shù)參數(shù)

    1. 
    光源技術(shù)
    ○ 
    光源類型:極紫外(EUV)光源
    ○ 
    波長:13.5納米
    ○ 
    光源功率:高達(dá)250瓦,確保高分辨率和良好的成像質(zhì)量
    2. 
    分辨率
    ○ 
    最小特征尺寸:7納米及以下
    ○ 
    套刻精度:小于1.5納米,滿足高精度芯片制造需求
    3. 
    工作臺系統(tǒng)
    ○ 
    雙工作臺設(shè)計:能夠?qū)崿F(xiàn)工作臺的快速交換,大幅提升生產(chǎn)效率
    ○ 
    工作臺精度:亞納米級定位精度,確保極高的對準(zhǔn)精度
    4. 
    曝光系統(tǒng)
    ○ 
    曝光方式:步進(jìn)掃描曝光
    ○ 
    掃描速度:可達(dá)500毫米/秒
    ○ 
    曝光場尺寸:26毫米×33毫米,適應(yīng)不同芯片設(shè)計需求
    5. 
    光學(xué)系統(tǒng)
    ○ 
    光學(xué)分辨率增強(qiáng)技術(shù):采用多重曝光技術(shù)(LELE)和計算光刻技術(shù),進(jìn)一步提升分辨率
    ○ 
    數(shù)值孔徑(NA):0.33,確保良好的成像質(zhì)量
    6. 
    生產(chǎn)效率
    ○ 
    產(chǎn)率:每小時可曝光超過175片晶圓
    ○ 
    平均故障間隔時間(MTBF):大于500小時,確保設(shè)備的高可靠性

    應(yīng)用領(lǐng)域

    ASML 4022.654.92831主要應(yīng)用于高端邏輯芯片和存儲芯片的制造。其高分辨率和高生產(chǎn)效率使其成為7納米及以下工藝節(jié)點(diǎn)芯片生產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應(yīng)用于智能手機(jī)、電腦、數(shù)據(jù)中心等高性能電子設(shè)備領(lǐng)域。

    技術(shù)優(yōu)勢

    1. 
    極紫外(EUV)光刻技術(shù):相比傳統(tǒng)光刻技術(shù),EUV技術(shù)具有更高的分辨率和更低的工藝復(fù)雜性。
    2. 
    雙工作臺設(shè)計:顯著提高了設(shè)備的利用率和生產(chǎn)效率,減少了停機(jī)時間。
    3. 
    高精度對準(zhǔn)系統(tǒng):確保了極高的套刻精度和成像質(zhì)量,提高了芯片的良率。
    4. 
    先進(jìn)的曝光和光學(xué)技術(shù):多重曝光技術(shù)(LELE)和計算光刻技術(shù)的應(yīng)用,進(jìn)一步提升了設(shè)備的性能。

    結(jié)語

    ASML 4022.654.92831作為一款采用極紫外(EUV)光刻技術(shù)的高性能光刻機(jī),憑借其卓越的技術(shù)參數(shù)和廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域,成為了半導(dǎo)體行業(yè)不可或缺的重要設(shè)備。其高效的生產(chǎn)能力和高精度的成像質(zhì)量,為芯片制造商提供了強(qiáng)大的技術(shù)支持,助力他們在激烈的市場競爭中保持領(lǐng)先地位。


    ASML 4022.654.92831 

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