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*平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶的測(cè)量面與試件的被測(cè)量面之間所出現(xiàn)的干涉條紋來測(cè)量被測(cè)量面的平面度。 |
| 平面直徑d(mm) | 基本參數(shù) | ||||
| 1級(jí) | 2級(jí) | ||||
| d范圍內(nèi) | 2/3d范圍內(nèi) | d范圍內(nèi) | 2/3d范圍內(nèi) | ||
| 30 45 60 |
0.03 | ---- | 0.1 | 0.05 | |
| 80 100 150 |
0.05 | 0.03 | |||
| 200 250 300 |
0.08 0.1 0.15 |
0.05 0.05 0.09 |
0.12 0.15 0.2 |
0.06 0.08 0.1 | |
