設備主要用于太陽能鈣鈦礦電池激光刻蝕，適用于ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、金、銀、碳粉等導電金屬、氧化物材料激光刻蝕，同時可針對白玻璃基底激光劃線。設備標準尺寸1200*600mm，同時預留出小面積300*300mm內的小幅面加工需求。
設備簡介
設備采用固體激光器，激光波長1030nm，適合對導電玻璃與鍍層進行精細刻線；采用自主研發(fā)的控制軟件、直接導入CAD 數(shù)據進行激光刻蝕，操作簡單，方便快捷；通過軟件實時調節(jié)振鏡與直線電機、電動升降工作臺的設計，加上真空吸附托盤裝置，能有效地解決激光刻蝕機在加工運行中的平穩(wěn)性；采用獨特除塵系統(tǒng)設計，能保證玻璃與工作平面的清潔，保證激光刻蝕過程中無殘留。
設備集數(shù)控技術、激光技術、軟件技術等光機電高技術于一體，具有高靈活性、高精度、高速度等先進制造技術的特征?？纱蠓秶鷥冗M行各種圖案，各種尺寸的精密、高速刻蝕，并且能夠保證很高的產能，是一個可靠、穩(wěn)定和具有高性能價格比的產品。
適用材料
玻璃基底上薄膜激光刻蝕，觸摸屏、光伏太陽能電池、電至色玻璃、其它顯示屏?？捎糜趯щ娿y漿、ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、碳粉、金、銀等導電金屬、氧化物材料處理。同時，可加工白玻璃激光劃線應用，最小線寬小于10微米。
整體說明
主要構成：激光器、光路系統(tǒng)、工作臺、控制系統(tǒng)、 定位系統(tǒng)、 抽塵系統(tǒng)、 真吸附空系統(tǒng)等組成。
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型號 |
ET1260-FF鈣鈦礦電池激光刻蝕機 |
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激光器 |
飛秒、皮秒激光器，波長1030nm/532nm |
納秒激光器，波長1064nm |
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加工幅面 |
1200*600mm（可定制小幅面或更大加工幅面，已預留小面積300*300mm加工幅面） |
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聚焦光斑 |
＜10μm |
＜20μm |
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激光器頻率調節(jié)范圍 |
20-5000KHz |
100-500KHz |
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刻蝕最小線寬 |
＜10 um |
＜20μm |
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（最大可以去除95%以上的氧化物鍍層） |
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整機精度 |
±15μm |
±20μm |
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最小線間距 |
＜10μm |
＜20μm |
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工作臺定位精度 |
±2um |
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工作臺重復精度 |
±1um |
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CCD自動定位精度 |
±2um |
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刻蝕速度 |
＜4000mm/s |
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設備尺寸 |
1950mmL×1700mmW×1960mmH |
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設備重量 |
3500kg |
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功率消耗 |
＜3000W |
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可處理文件格式 |
標準CAD2004版DXF文件 |
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注：根據實驗室前期實驗性階段需要，武漢元祿光電針對性開發(fā)出了實驗室階段小型激光刻蝕機，適用于100*100mm以下導電玻璃激光刻蝕、劃線應用，歡迎前來咨詢了解。
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